去膠清洗設(shè)備中國電科45所<自動去膠清洗設(shè)備，中國電子科技集團(tuán)公司第四十五研究所生產(chǎn)，廣泛應(yīng)用于濕法去除光刻膠的工藝。    去膠清洗設(shè)備中國電科45所

全自動單晶制絨清洗機(jī)中國電科45所<單晶硅太陽能電池片濕法設(shè)備主要技術(shù)特點(diǎn)：獨(dú)特的雙槽制絨工藝槽設(shè)計(jì)，分立式加熱系統(tǒng)保證溶液均勻性并降低運(yùn)營成本，多通道注入結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)制絨工藝槽溶液均勻性控制，機(jī)械

濕法處理設(shè)備中國電科45所<微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）是指用微機(jī)械加工技術(shù)制作的包括微傳感器、微致動器、微能源等微機(jī)械基本部分以及高性能的電子集成電路組成的微機(jī)電器件與裝置。四十五所研制的MEMS器

濕法刻蝕設(shè)備中國電科45所自動精密濕法刻蝕設(shè)備，可應(yīng)用于硅片清洗、無圖形薄膜去除（如氮化硅和鈦的去除）、鋁腐蝕、金刻蝕、鎳刻蝕、Si刻蝕、SiO2刻蝕等工藝。    濕法刻蝕設(shè)備中

石英管清洗機(jī)中國電科45所四十五所密切跟·蹤太陽能光伏行業(yè)發(fā)展，致力于“設(shè)備+工藝”的研發(fā)模式，現(xiàn)已形成30MW和60MW兩種能規(guī)模的主流生產(chǎn)線的設(shè)備配套能力，批次處理產(chǎn)能為200片，300片，400

太陽能電池清洗機(jī)中國電科45所<四十五所密切跟·蹤太陽能光伏行業(yè)發(fā)展，致力于“設(shè)備+工藝”的研發(fā)模式，現(xiàn)已形成30MW和60MW兩種能規(guī)模的主流生產(chǎn)線的設(shè)備配套能力，批次處理產(chǎn)能為200片，30

太陽能光伏制造設(shè)備中國電科45所單晶硅太陽能電池片濕法設(shè)備主要技術(shù)特點(diǎn)：獨(dú)特的雙槽制絨工藝槽設(shè)計(jì)，分立式加熱系統(tǒng)保證溶液均勻性并降低運(yùn)營成本，多通道注入結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)制絨工藝槽溶液均勻性控制，機(jī)械傳動特殊設(shè)

探針臺中國電科45所探針臺/中測臺是對芯片制程中的電參數(shù)和功能高速高精度測試，以此判斷芯片的優(yōu)劣。主要適用于半導(dǎo)體分立器件、光電器件及集成電路芯片。可實(shí)現(xiàn)手動、自動、全自動測試，適用于生產(chǎn)線、高校及科

碳化硅切割設(shè)備中國電科45所<該設(shè)備主要適用于藍(lán)寶石、碳化硅、人工晶體、激光晶體、硬脆金屬等材料的切片加工。具有占地面積小、切料尺寸大、切割速度快、切片精度高、操作簡單方便、運(yùn)行穩(wěn)定可靠及維護(hù)成

旋轉(zhuǎn)沖洗甩干機(jī)中國電科45所<LXS系列立式旋轉(zhuǎn)沖洗甩干機(jī)主要用于材料制備、太陽能電池片、分立器件等行業(yè)中晶片的沖洗干燥工藝。該產(chǎn)品基礎(chǔ)成熟可靠，得到用戶的廣泛認(rèn)可，具有極高的市場占有率。 &n

勻膠機(jī)中國電科45所<涂膠機(jī)是將光刻膠均勻的噴霧或者旋涂于晶圓表面，并可進(jìn)行曝光后的顯影處理。涂膠顯影設(shè)備適用于LED、MEMS、聲表面波、IC集成電路等行業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)晶圓手動或者全自動勻膠顯影工藝

勻膠顯影設(shè)備中國電科45所<涂膠機(jī)是將光刻膠均勻的噴霧或者旋涂于晶圓表面，并可進(jìn)行曝光后的顯影處理。勻膠/顯影設(shè)備分為軌道式和星型兩種結(jié)構(gòu)，涂膠顯影設(shè)備適用于LED、MEMS、聲表面波、分立器件

中測臺中國電科45所<探針臺/中測臺是對芯片制程中的電參數(shù)和功能高速高精度測試，以此判斷芯片的優(yōu)劣。主要適用于半導(dǎo)體分立器件、光電器件及集成電路芯片。可實(shí)現(xiàn)手動、自動、全自動測試，適用于生產(chǎn)線、

光刻板清洗機(jī)中國電科45所<全自動光刻版（掩膜版）清洗機(jī)，用于半導(dǎo)體制造過程中光刻版自動清洗、及干燥工藝。該設(shè)備可有效清`除光刻版在使用過程中表面粘附的殘膠、油污、顆粒等污染，大大改善光刻工藝效

金屬膜剝離清洗機(jī)中國電科45所<DFQ-3100型全自動金屬膜剝離機(jī)，用于聲表面波（SAW）器件、GaAs微波、毫米波器件、MEMS器件、OLED器件和先進(jìn)封裝等制造中微細(xì)圖形金屬膜剝離工藝，自